O ECR-CVD (Electron Cyclotron Resonance Chemichal Vapor Deposition) ‚ utilizado para deposições assistidas por plasma de alta densidade, a alta densidade de plasma ‚ estabelecida pela fonte ECR de (2,54 GHz).
As deposições são executadas em temperatura ambiente (20 C).
O ECR-CVD ‚ utilizado para a deposição de nitreto de silício, óxido de silício, silício amorfo.
CCS
Equip. de Análise Térmica DSC TA Instruments,
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Equip. de Análises Térmicas TA Instruments,
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Equip. de Análises Térmicas TA Instruments, m
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Equipamento de Análise Térmica Seiko, modelo
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Equipamento de Fluorescência de Raios X Marca
A espectrometria de fluorescência de raios X (XRF) tem capacidade de realizar a análise elementar de uma ampla gama de materiais, incluindo sólidos, líquidos e pós soltos. Pode analisar até 28 elementos simultaneamente em faixas de concentração de ppm a 100%.
FEQ
Escâner Epson Expression
Escâner de alta resolução (2400x4800 dpi)
IB
Espectrofluorimetro Modular Horiba Scientific
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Espectrofluorímetro Perkin Elmer, modelo LS 5
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Espectrofluorímetro Varian, modelo Cary Eclip
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Central de Equipamentos e Serviços / Service Facility
