| E-line |
O Sistema de Litografia por Feixes de Elétrons eLine comporta a escrita em substratos de silício, vidro, GaAs e outros at‚ 2? de diƒmetro, com tensão de aceleração variável entre 100V e 30 kV com canhão tipo TFE.
Opera tanto no modo de escrita como no modo de imageamento.
O tamanho da sonda ‚ de 2 nm (p/ 20 kV).
Possui abertura selecion veis de 7 æm, 10 æm, 15 æm, 20 æm 30 æm, 60 æm e 120 æm, permitindo selecionar correntes de feixe entre 1 pA a 2 nA.
O sistema de deflexão do feixe permite a seleção de campos entre 1 æm e 2 mm.
A metrologia de movimento da mesa do porta substrato ‚ controlada por interferometria a laser com resolu‡Æo de 2 nm.
O eLine conta com dois detetores de el‚trons retroespalhados, um convencional e outro opera no modo ?Inlens,? permitindo trabalhar com detecção de marcas de alinhamento para escritas multiníveis.
As operações do sistema de vácuo são automatizadas e o equipamento conta com ante-câmara (loadlock).
Possui software de edição de "layouts" instalado e aceita formatos GDSII, CIF, DXF, ASCII, BMP. |
CCS |
| ECIS |
O equipamento ECIS (Electric Cell-substrate Impedance Sensing System) consiste em um sensor de impedância capaz de monitorar alterações na atividade celular mediadas pelo citoesqueleto em monocamadas de células em cultura em tempo real. As aplicações incluem o monitoramento in vitro da integridade da barreira endotelial e estudos de migração celular. |
FCM |
| ECR-CVD |
O ECR-CVD (Electron Cyclotron Resonance Chemichal Vapor Deposition) ‚ utilizado para deposições assistidas por plasma de alta densidade, a alta densidade de plasma ‚ estabelecida pela fonte ECR de (2,54 GHz).
As deposições são executadas em temperatura ambiente (20 C).
O ECR-CVD ‚ utilizado para a deposição de nitreto de silício, óxido de silício, silício amorfo. |
CCS |
| Equip. de Análise Térmica DSC TA Instruments, |
|
IQ |
| Equip. de Análises Térmicas TA Instruments, |
|
IQ |
| Equip. de Análises Térmicas TA Instruments, m |
|
IQ |
| Equip. de Análises Térmicas TA Instruments, m |
|
IQ |
| Equipamento de Análise Térmica Seiko, modelo |
|
IQ |
| Equipamento de Análise Térmica Seiko, modelo |
|
IQ |
| Equipamento de Fluorescência de Raios X Marca |
A espectrometria de fluorescência de raios X (XRF) tem capacidade de realizar a análise elementar de uma ampla gama de materiais, incluindo sólidos, líquidos e pós soltos. Pode analisar até 28 elementos simultaneamente em faixas de concentração de ppm a 100%. |
FEQ |
| Escâner Epson Expression |
Escâner de alta resolução (2400x4800 dpi) |
IB |
| Espectrofluorimetro Modular Horiba Scientific |
|
IQ |
